Hyper NA EUV
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ASML研發(fā)新一代Hyper NA EUV光刻機(jī)：5nm單次曝光
ASML研發(fā)新一代Hyper EUV先進(jìn)光刻機(jī)，目標(biāo)實(shí)現(xiàn)0.7或更高NA，為2035年芯片產(chǎn)業(yè)做準(zhǔn)備。
ASML研發(fā)新一代Hyper EUV先進(jìn)光刻機(jī)，目標(biāo)實(shí)現(xiàn)0.7或更高NA，為2035年芯片產(chǎn)業(yè)做準(zhǔn)備。
